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레이저 클리닝 기계의 실리콘 웨이퍼 클리닝을 뒷받침하는 혁명적인 힘

2025,12,16
오늘날 급속한 기술 발전의 시대에 반도체 산업은 현대 기술의 핵심으로서 생산 과정의 모든 단계를 중요하게 만듭니다.
Gantry Automatic Laser Galvo Welding Machine
반도체 제조의 핵심 소재인 실리콘 웨이퍼는 표면 청결도로 인해 제품 품질과 성능에 직접적인 영향을 미칩니다.
화학적 세척 및 기계적 브러싱과 같은 전통적인 실리콘 웨이퍼 세척 방법은 웨이퍼 표면에서 불순물을 어느 정도 제거할 수 있지만 많은 단점을 가지고 있습니다.
화학적 세척에는 다량의 화학 시약이 필요하므로 비용이 많이 들고 환경 오염이 발생합니다.
기계적 브러싱은 실리콘 웨이퍼 표면을 쉽게 긁어 후속 처리 및 사용에 영향을 미칩니다. 레이저 클리닝 머신 기술의 출현은 이러한 상황을 근본적으로 변화시켰습니다.
레이저 클리닝 머신은 비접촉식 클리닝 방식을 제공합니다. 고에너지 밀도 레이저 빔을 활용하여 실리콘 웨이퍼 표면에 조사하여 먼지, 산화막 및 기타 불순물을 즉시 제거하여 세척 효과를 얻습니다.
이 세정 방식은 빠르고 효율적일 뿐만 아니라 실리콘 웨이퍼 표면에 물리적인 손상을 주지 않고 화학적 잔여물도 남기지 않아 진정한 친환경 세정 기술입니다.
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